塑料成型工藝中描述的拋光與其他行業所需的表麵拋光有很大不同，嚴格來說，模具的拋光應稱為鏡麵拋光。它不僅（jǐn）對拋光

本身有很高的要求，而且對表麵平整度（dù）、的平滑度和幾何精（jīng）度也有很高的標準（zhǔn）。表麵拋光通常僅需要光澤表麵。鏡像處理標準

分（fèn）為四個級別。

　　對於（yú）電（diàn）解拋光、流體拋光的過程中，它是難以準確地控製各部分的幾何精度，由於化（huà）學拋光所（suǒ）述超聲波拋光、磁性拋光的、表麵質量不是必需的，精密模具主要是基於機械拋光。 。

　　1、半精細拋光主要使用砂紙實驗室和煤油協會。

　　2、精密拋光主要製作（zuò）金剛（gāng）石膏。通常的磨削，以（yǐ）除去為9um（＃1800）-6um（＃3000）-um是在殼體＃1200和砂紙（8000）的＃1500離開頭發（fā）的痕跡，拋光布為9um的金（jīn）剛（gāng）石研磨膏（gāo）你可以使用方向盤。然後使用（yòng）1μm（＃14000）至1 /2μ

m（60000）至1 /4μm（＃100000）量級的氈和金剛石漿料進行拋光。要求精度為1微米或更大（包括1微米）的拋光工藝

必須是絕對清（qīng）潔的空間，用於拋光模具。灰塵、煙（yān）霧，頭皮屑和唾液（yè）可能具有高精度拋光表麵（miàn），可在工作數小時後獲得。

　　3、為了獲得（dé）機械拋光的基（jī）本程序，高（gāo）質量的拋光效果，最（zuì）重要的是要有高質量的拋光工具和砂紙和研磨膏等配件。最重要的是一個複雜的（de）工作環境，需要一個潔淨室。拋光程序的選擇取決於先前加工的表麵狀況，例（lì）如、 EDM加工，磨削。

　　4、機械拋（pāo）光（guāng）的一般過程如下。粗拋、銑（xǐ）削、電火花、的處理之（zhī）後磨（mó）削表麵可以被選（xuǎn）擇在35000-40000rpm的旋（xuán）轉表麵研磨機或超聲波（bō）粉碎（suì）機（jī）旋轉。常見的（de）方法是使（shǐ）用直徑為3 mm、 WA＃400的輪子去除白色火花層。然後手動油石磨，金剛石

砂岩和煤油條作為潤滑（huá）劑或冷卻（què）劑。一般使用順序是＃180  - ＃240  - ＃400  - ＃600  - ＃1000。

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