塑料成（chéng）型工（gōng）藝中描述的拋（pāo）光與其他行業所需的表麵拋光有很大不同，嚴格來說，模具的拋光應稱為鏡麵拋光。它不僅對拋光

本身有很（hěn）高的要求，而且對（duì）表麵（miàn）平（píng）整度、的平滑（huá）度和（hé）幾何精度也有很高的標準。表麵拋光通常僅需（xū）要光澤表麵（miàn）。鏡像處理標準

分為四個級別（bié）。

　　對於電（diàn）解拋光、流體拋光的過程中，它是難以準確地控製各（gè）部分的幾何精度，由（yóu）於化學拋光所述（shù）超聲波拋光、磁性拋光的、表（biǎo）麵質量不是必需的，精密（mì）模具主要是基於機械拋光。 。

　　1、半精細拋光主（zhǔ）要使用砂紙實驗室和煤油協會。

　　2、精密拋光主要製作（zuò）金剛石膏。通常的磨削，以除去（qù）為9um（＃1800）-6um（＃3000）-um是在殼體＃1200和砂紙（8000）的＃1500離開頭發的痕跡，拋光布為9um的金剛（gāng）石（shí）研磨膏你可以（yǐ）使用方向盤。然後使用1μm（＃14000）至1 /2μ

m（60000）至1 /4μm（＃100000）量級的氈和金剛石漿料進行拋光。要求精度為1微米或更大（包括1微米）的拋光工藝

必須是絕對清潔的空間，用於拋光模具。灰塵、煙霧，頭皮屑和唾液可能具有高精度拋光表麵，可（kě）在工作數（shù）小時後獲得。

　　3、為了獲得機（jī）械拋光（guāng）的基本（běn）程序（xù），高質量的拋光效果，最重要的（de）是（shì）要有高質量的拋光工具和砂紙和（hé）研磨膏等配件。最（zuì）重（chóng）要的是一個複雜的工作環境（jìng），需（xū）要一個潔淨室。拋光程序的選擇取決（jué）於先前加工的表麵（miàn）狀（zhuàng）況，例如、 EDM加工，磨削。

　　4、機械拋光的一般過程如下。粗拋、銑削、電火（huǒ）花、的處理之後磨削表麵可以被選擇在35000-40000rpm的旋轉表麵研磨機或超（chāo）聲波粉碎機旋轉。常見的（de）方法是使用直徑為3 mm、 WA＃400的輪（lún）子去除白色火（huǒ）花層。然後手動油石（shí）磨，金剛石

砂岩和煤油條作為潤滑劑或冷卻劑。一般使（shǐ）用順序是＃180  - ＃240  - ＃400  - ＃600  - ＃1000。

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