隨著塑料製品日溢廣泛的應用，如日化（huà）用品和飲料包裝容器等，外觀的（de）需要往往（wǎng）要求（qiú）塑料模具（jù）型腔（qiāng）的表麵達到鏡麵拋（pāo）光的程度。而生產光學鏡片、鐳射唱片等模具對表麵粗糙度要求極高，因而對拋光（guāng）性的要求也極高。

拋（pāo）光不僅增加（jiā）工件（jiàn）的美觀，而且能夠（gòu）改善材料表麵的耐腐蝕（shí）性、耐磨性，還可以使模具擁有其它優點（diǎn），如使塑料製品易於脫模，減（jiǎn）少生產注塑周期等。因而拋光在塑料模具製作過程中是很重要的一（yī）道工序。

目前常用的拋（pāo）光方法有以下幾種：

1.1 機（jī）械拋（pāo）光

機械拋（pāo）光是*切削、材料表（biǎo）麵塑性變形去（qù）掉被拋光後的凸（tū）部而得（dé）到平滑麵的拋光方法，一般使（shǐ）用油石條、羊毛輪、砂紙等，以手工操（cāo）作為主，特殊零件如回轉體表麵，可使用轉台等輔（fǔ）助工具，表麵（miàn）質量 要求高的可（kě）采用超（chāo）精研拋的方法。

超精研拋是采用特（tè）製的磨具，在含有磨料的研（yán）拋液中，緊壓（yā）在工件（jiàn）被加工表麵上，作高速旋轉運動。利用該技術可以達到Ra0.008μm的表麵（miàn）粗糙（cāo）度，是各（gè）種拋光方法中最高的。光學鏡片模具常采用這（zhè）種方法。

1.2 化學拋光

化學拋光是（shì）讓材料在化學（xué）介質中表麵微觀凸出的（de）部分較凹（āo）部分優先溶解，從而得（dé）到（dào）平滑麵（miàn）。這種方法（fǎ）的主要優點是不需複雜設備，可以拋（pāo）光形狀複雜的工件，可以同時拋光很多工件，效率高。化學拋光的（de）核心問題是拋光液的配製。化學拋（pāo）光得到的表麵粗（cū）糙（cāo）度一般為（wéi）數10μm。

1.3 電解拋光

電解拋光基本原理與化學拋光相同，即*選擇性（xìng）的溶解材料表麵微小凸出部分，使表麵光滑（huá）。與化學拋光相比，可以消除陰極反應的影（yǐng）響（xiǎng），效果較好。電化學拋光過程分為兩步：

（1）宏觀整平（píng） 溶解產（chǎn）物向電解液中擴散，材料表麵幾（jǐ）何粗糙下降，Ra＞1μm。

（2）微光平整 陽極極化，表麵光亮（liàng）度提高，Ra＜1μm。

1.4 超聲波拋光

將工件放入磨料（liào）懸浮（fú）液中並一起置（zhì）於超聲波場中，依*超聲波的振蕩作用，使磨料在工（gōng）件表麵磨削拋（pāo）光。超聲波加（jiā）工（gōng）宏觀（guān）力小，不會引起工件（jiàn）變形，但工裝製作和安裝較困難。超聲波加（jiā）工可以與化學或電化學方法結合。在溶液腐（fǔ）蝕、電（diàn）解的基礎上，再施加超聲波振動攪拌溶液（yè），使工件表麵溶解產物脫離，表麵（miàn）附近的腐蝕（shí）或電解質均勻；超聲波在液體（tǐ）中的空化作用還能夠抑製腐蝕過程（chéng），利於表麵（miàn）光亮化

1.5 流體拋（pāo）光

流體拋光是依*高速流動的液體及其攜帶的磨粒衝刷工件（jiàn）表麵達到拋光的目的。常用方法有：磨料噴射加工、液體噴射加工（gōng）、流體動力（lì）研磨等。流（liú）體動（dòng）力研（yán）磨是由液壓驅動，使攜帶磨粒的（de）液體介質高（gāo）速往複流過工件表麵。介質主要采用在（zài）較低壓力下（xià）流過性好的特殊化合物（聚合物狀物質）並摻（chān）上磨料製成（chéng），磨料可采用碳化矽粉末（mò）。

1.6 磁研磨（mó）拋光

磁研磨拋光（guāng）是利（lì）用磁性磨料在磁場作用下形成磨料（liào）刷，對工（gōng）件磨削（xuē）加工（gōng）。這種（zhǒng）方法加工效率高，質量好，加工條件容易控製，工作條件好（hǎo）。采用合適的磨料，表麵粗糙度可以達（dá）到Ra0.1μm。

在塑料模具加工中所說的拋光與其他行業中所要求的表麵拋光有很大的不同（tóng），嚴格來說，模具的拋光應（yīng）該稱為（wéi）鏡麵加工。它不僅對（duì）拋（pāo）光本身有很高的要求並且對表麵平整（zhěng）度、光滑度以及幾何精確度也有很高的標準。表麵拋光一般隻要求（qiú）獲得光亮的表麵即（jí）可。

鏡麵加工的標準（zhǔn）分為四級：AO=Ra0.008μm，A1=Ra0.016μm，A3=Ra0.032μm，A4=Ra0.063μm，由於電解拋光、流體拋光等（děng）方法很（hěn）難精確控製零件的幾何精確度，而化學拋光、超聲波拋（pāo）光、磁研磨（mó）拋光等方法的表麵質量又達不（bú）到要求，所以精密模具的鏡麵加工還是以機（jī）械拋光為主。

機械拋光基本程序

要想獲得高（gāo）質量的拋光效果，最重（chóng）要的是要具備有高質量的油石、砂紙和鑽石研磨膏等拋光工具和輔助品。而拋光程序的選擇取決於前期加工後的表（biǎo）麵狀況，如機械加工、電火花加（jiā）工，磨加工等等。機械拋光的一（yī）般過程如下：

1、粗拋

經銑、電火花、磨等工藝後（hòu）的表麵可以選擇轉速在35 000—40 000 rpm的旋轉表麵（miàn）拋光機或超聲波研磨機進行拋光。常用（yòng）的方法有利用直徑（jìng）Φ3mm、WA # 400的輪子去除白色電火花層。然（rán）後是手工油石（shí）研磨，條狀油石（shí）加煤油作為潤滑劑（jì）或冷卻劑。一般的使用（yòng）順序為#180 ~ #240 ~ #320 ~ #400 ~ #600 ~ #800 ~ #1000。許多模具製造商為了節約（yuē）時間而選擇（zé）從#400開始。

2、半精拋

半精拋主要使用砂（shā）紙和煤油。砂紙的（de）號數依次為：#400 ~ #600 ~ #800 ~ #1000 ~ #1200 ~ #1500。實際（jì）上#1500砂紙隻用適於淬硬的模具鋼（52HRC以上），而不適用（yòng）於預硬鋼，因為這樣可能會導（dǎo）致預硬鋼件表麵燒傷。

3、精拋

精拋主要使用鑽石研磨（mó）膏。若用拋光布輪混合鑽石（shí）研磨粉或（huò）研磨膏進行（háng）研磨的話，則通常的研磨順序是9μm（#1800）~ 6μm（#3000）~3μm（#8000）。9μm的鑽石研（yán）磨膏和拋光布輪可用（yòng）來（lái）去除#1200和#1500號砂紙留下的發狀磨痕。接著用粘氈和鑽石研磨膏進行拋光，順序為（wéi）1μm（#14000）~ 1/2μm（#60000）~1/4μm（#100000）。

精度要求在1μm以上（包括1μm）的拋光工藝在模具加工車間中一個清（qīng）潔的拋光室內即可進行（háng）。若進行更加精密的拋（pāo）光則必需一個絕對（duì）潔淨的空間。灰塵、煙霧，頭皮屑和口水沫都有可能報廢數個小時工作後得到的高精密拋光表麵。

機械拋光（guāng）中要注意的問題

用砂紙拋（pāo）光應注意以下幾點：

1、用砂紙拋光需要利用軟的木（mù）棒或（huò）竹棒。在（zài）拋（pāo）光圓麵或球麵時（shí），使（shǐ）用軟木棒可更好的配合圓麵和球麵的弧度。而（ér）較硬的木條像櫻桃木，則更適用於平整表麵的拋光。修整木（mù）條（tiáo）的末端使其能與（yǔ）鋼件表麵形狀保持吻合，這樣可以避免木條（或竹條）的銳角接觸鋼件表麵（miàn）而造成較深的劃痕。

2、當換用不同型號的砂紙時，拋光（guāng）方向應變換45°~ 90°，這樣前一種型號砂紙拋光後留下的條紋陰（yīn）影（yǐng）即可分辨出來。在換不同型號砂紙之前，必須用100％純棉花沾取酒精之類的清潔液對拋光表麵進行仔細的擦拭（shì），因為一顆很小的沙礫留在表麵都會毀（huǐ）壞（huài）接下去的整個（gè）拋（pāo）光工作。從砂紙拋光（guāng）換（huàn）成鑽石研磨膏拋光時，這個清潔過程同樣重要。在拋光繼續進行之前，所有顆粒和煤油都必須被完全（quán）清潔幹淨。

3、為了避免擦傷和燒傷工件表麵，在用#1200和#1500砂紙進行拋光時必須特別小心。因而有必要加載（zǎi）一個輕載荷以及采用（yòng）兩步拋光法對表麵進行拋光。用每一種型號的（de）砂紙進行拋光時都應沿（yán）兩個不同方向進行兩次拋光，兩個方向之間每次轉動45°~ 90°。

鑽石研磨拋光應注（zhù）意以下幾點（diǎn）：

1、這種拋光必須盡量在較輕（qīng）的壓力（lì）下進行特別是拋光預硬鋼件和用細研（yán）磨膏拋光時（shí）。在用#8000研磨膏拋光時，常用載荷為100~200g/cm2，但要保持（chí）此載荷的精準度很難做到。

為了（le）更容（róng）易做到這一點，可以在木條上做一個薄（báo）且窄的手柄，比如加一銅片；或者在竹條（tiáo）上切去一部（bù）分而使其更加柔軟（ruǎn）。這樣可以幫助控製拋光壓力，以確保模（mó）具表麵壓力不會過高（gāo）。

2、當使用鑽石研磨拋光時，不僅是（shì）工作表麵要求潔淨，工作者的（de）雙手也（yě）必（bì）須仔細（xì）清潔。

3、每次拋光時間不應過長，時間越短，效果越好。如果拋光過程進行得過長將會造成“橘皮”和（hé）“點蝕”。

4、為獲得（dé）高質量的拋（pāo）光效果，容易發熱的拋光方法和工具都應避免。比如：拋（pāo）光輪拋光，拋光輪產生的熱量會很容易造成“橘皮”。

5、當拋光過程停止時，保證工件表麵潔淨和仔細去除所有（yǒu）研磨劑和潤滑劑非（fēi）常重要，隨後應在表麵噴淋一層模具防鏽塗層。

由於機械拋光主要（yào）還是*人（rén）工完成，所以拋光（guāng）技術（shù）目（mù）前還是（shì）影響拋光質量的主要原因。除此之外，還與模具材料（liào）、拋光前的表麵狀況、熱處（chù）理工（gōng）藝等有關。優質的鋼材是獲（huò）得良好（hǎo）拋光質量的（de）前提條件（jiàn），如果鋼材表麵硬度不均或特性上有差異，往往會產生拋光困難。鋼材中（zhōng）的各種夾雜物和氣孔都不利於拋光。

不同硬度對拋光工藝的影響

硬度（dù）增高使研磨（mó）的困難增大，但拋光後的粗糙度（dù）減小。由於硬度的（de）增高，要達到（dào）較低的粗糙度（dù）所需的拋光時間相（xiàng）應增長。同（tóng）時硬度（dù）增高，拋光過度（dù）的可能性相應減少。

工件（jiàn）表麵狀況（kuàng）對拋光工藝的影響

鋼材在切削機械加工的破碎過程中，表層會因熱量、內應力或其他因素而損壞，切削參數不當會影響拋光效果。電火花加工後的表（biǎo）麵比普通機械（xiè）加工或熱處理後的表麵更難研磨，因（yīn）此電火花加工結束前應（yīng）采用精規準電火花修整，否則表麵會形成硬化薄層。

如果電火花精修規準選擇不當，熱影響層（céng）的（de）深度最大（dà）可達0.4mm。硬化（huà）薄層的硬度比基體硬度高，必須去除。因此最好增加一道粗磨加工，徹底清除損壞表麵層，構成一片平均粗糙（cāo）的金屬麵，為（wéi）拋光加工提供（gòng）一個良好基礎。

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