塑（sù）料成型工藝（yì）中描述（shù）的拋光與其他行業所需的表麵拋（pāo）光有很大不同，嚴格（gé）來說，模具的拋光應稱為鏡麵拋光。它（tā）不僅對拋光

本身有很高的要求，而且對（duì）表麵平整度、的平滑度和幾何精度也有很高的標準。表麵拋光通常僅（jǐn）需要光澤表麵。鏡像處理（lǐ）標（biāo）準

分為四個（gè）級別。

　　對（duì）於電解拋光、流體拋光的過程中，它是難以（yǐ）準確地控製各部分的幾何精度，由於化學拋光所述超聲波拋光、磁性拋光的、表麵質量不（bú）是必需的，精密模具（jù）主要是基於機械拋光。 。

　　1、半精細拋光主要使用砂（shā）紙實（shí）驗室和煤油協會。

　　2、精密拋（pāo）光主要製作金剛石膏。通常的磨削，以除去為9um（＃1800）-6um（＃3000）-um是在殼體＃1200和砂紙（8000）的＃1500離開頭發的痕跡（jì），拋光布為9um的金剛石研磨膏（gāo）你（nǐ）可以使用方（fāng）向盤。然後使用1μm（＃14000）至1 /2μ

m（60000）至1 /4μm（＃100000）量級（jí）的氈和（hé）金剛石漿料進行拋光。要求精度為1微米或更大（dà）（包（bāo）括1微米）的（de）拋（pāo）光工藝

必須是絕對清潔的（de）空（kōng）間，用於拋光模具。灰塵、煙霧，頭皮（pí）屑和唾液可（kě）能具有高精度拋光表麵，可在工作數小時後獲得。

　　3、為了獲得機械拋光的基本程序，高質量的拋光效果，最（zuì）重要的是要有高質（zhì）量的（de）拋光工具和砂紙和研磨膏等配（pèi）件。最重（chóng）要的是一個複雜的工作環境，需要一個潔淨室（shì）。拋（pāo）光程序的選擇取決於先前加工的表麵狀況，例如、 EDM加工，磨削。

　　4、機械拋光的一般（bān）過程如下。粗拋、銑削、電火（huǒ）花、的處理之後磨削表麵可以被選擇在35000-40000rpm的旋轉表麵研磨機或超聲波粉碎機（jī）旋轉。常見的方法是使用直徑為3 mm、 WA＃400的輪子去除白色火（huǒ）花層。然後手動油石磨，金剛石

砂岩（yán）和煤油條作為潤滑劑或冷卻劑。一般使用順（shùn）序是（shì）＃180  - ＃240  - ＃400  - ＃600  - ＃1000。

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